pvd鍍（dù）膜技（jì）術（shù）是在（zài）真（zhēn）空條件（jiàn）下，采用低電壓的電弧放電技術（shù），通（tōng）過氣體放電蒸發靶材，將物質沉積在基材上，提高產品的外觀效果和（hé）裝飾性能，從而（ér）得（dé）到不同的顏色外觀（guān）。由（yóu）於使用pvd真空鍍後，鍍膜層的附著力增強，在產生不良品（pǐn）後，需要PVD退鍍液將PVD塗層從被鍍基體上除去。

PVD鍍膜膜（mó）層的厚度為微米級（jí），厚度較薄，一般為0.3μm ～ 5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度更小 ，因此對退鍍技術以及設備提出（chū）了苛刻（kè）的要求：既要退除鍍層，又要不傷害到工（gōng）件。隨著電子零配件集成化的要求，很（hěn）多產品是（shì）不鏽鋼、光（guāng）學玻璃、陶瓷藍寶石等，這些工（gōng）件的PVD膜（mó）層的退（tuì）除相對單一（yī）底材，其退除難度更（gèng）大。

PVD退鍍液在（zài）退鍍作業當中與膜層的反應時間十分短,在進行（háng）膜（mó）層（céng）剝離過程當中速度很快，能夠快速的去除物體表麵的鍍層。退鍍過程（chéng）中基本不會產生殘留，對退鍍基材也不會有損傷。

PVD退鍍液是（shì）一種堿性的PVD膜層剝離劑，可快速脫除光學玻璃、陶瓷、藍寶石（shí）以及（jí）不鏽鋼（gāng）表麵（miàn）上的金屬膜，氧化（huà）物膜，氮化物膜和碳化物膜等真空鍍層，水基環保，退鍍效果高，不傷基材，適用於鍍膜之不良品的返修工（gōng）序（xù）。

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